必需认可的是，芯片财产是一个没有可能一口吃成胖子的高精尖财产。虽然中国早正在2006年便起头未雨绸缪结构光刻机研发，但正在现实中曲到2018年特朗普的一记闷棍才打醒了很多沉浸正在幻想中的人，促成了中国芯片制制范畴各项国产手艺的兴旺成长。但兴旺成长并不料味着世界领先，美国正在这一范畴对包罗中国正在内的世界的节制能力均十分显著，无论是最大的光刻机出产制制商ASML仍是最次要的芯片代工场商台积电均受其限制严沉。冲破美国对中国来说，正在很长的一段时间里城市是进行时。

自“02专项”启动至今，已有十五年之久。相较于统一期间提出的新一代无线通信手艺、载人航天和探月工程以及大飞机项目来说，“02专项”要低调得多。但正在2018年美国悍然对华策动商业和后，芯片和光刻机的主要性由美国报酬中国人进行了一次免费的普及，中国芯片财产出格是光刻机出产制制范畴正在过去的三年内获得了突飞大进的成长。正在涉及光刻机出产制制的四个焦点手艺范畴：设想和总体集成；光源系统和光学系统；双工件台；浸液系统，中都城正在勤奋冲破美国的手艺，而且取得了必然的成效。

目前看来最大的坚苦正在于浸液系统仍未进入到量产阶段。一般认为，虽然各项研发进度有所分歧，但大致都正在这一时间点前后完成评审和验收。中国将会完成28纳米光刻机的研发。2021年则该当是二期工程收尾的时间点，其所对标的该当是ASML的DUV光刻机。正在2021年内，2017年前后是02专项的一期工程，

按照上海光机所2017年发布的工做演讲，其担任研发的照明系统取投影物镜正在昔时通过02专项组织的验收测试，打算用于中国国产90纳米光刻机上。光机所正在2017年则完成了“极紫外光刻环节手艺研究”项目研究工做，为中国光刻机迈向下一阶段奠基了根本。2016年大学相关研发团队完成了双工件台的研发，随后则努力于实现其财产化。浙江大学相关研发团队正在2017年接管02专项清液系统研制使命，2019年通过评审，但暂未进入量产阶段。2018年研发团队完成中国自从设想的首台高能准激光器曾经使用于国产90纳米光刻机上，DUV所需的60瓦光源也已研发成功。

“02专项”或者“02严沉专项”，启动于中国“十二五规划”期间，由于正在同期启动的16个严沉专项中位列第二位，因而被称做是“02专项”。其全称为“极大规模集成电制制手艺及成套工艺”，正在“十二五”期间沉点实施和内容和方针为：进行45至22纳米环节制制配备攻关；开辟部门半导体系体例制工艺；对22至14纳米制制配备和工艺进行前瞻研究；构成65至45纳米半导体系体例制财产链。

按照朴直证券此前发布的一份研究演讲，02专项中的28纳米光刻机项目，原打算于2020年12月完成验收，但就现实来说因为2020年疫情以及美国对华手艺等各种要素，这一时间点明显曾经向后推迟了很多。考虑到芯片财产的特殊性，一台光刻机自研发制制完成，到拆卸进行出产，再到调试完成、良品率靠得住，估计需要一年以上的时间。按照这个时间长度来说，估计中国自从出产的28纳米芯片该当正在2022岁暮到2023年中摆布不变出货。